大家都清楚，芯片工艺，也就是XX纳米，其实指的是晶体管的栅极线宽，本应该是一一对应的。

但自从芯片工艺进入28nm之后，芯片工艺和晶体管的栅极线宽，就没有什么一一对应关系了，因为栅极线宽无法无限的缩小，但工艺又要不断的缩小。

于是从28nm之后，就变成了等效工艺，工艺命名也就更随意了些，至于是叫7nm，还是叫5nm，只要晶圆厂不要脸，可以随便叫。

之前高通、台积电其实已经算是隐晦的认同了这一点，称所谓的制程节点已经变成了一种营销游戏，大家喜欢将其说的小一点，以显示工艺先进。

大家看下图，就可以看到，在10nm时，台积电、三星的芯片晶体管密度差不多，但只有台积电的一半，到7nm时依然如此，但到5nm时，差别就大了，3nm时差别就更大了，明显在相同工艺下，大家的技术明显不一样，区别非常大。

原因就是各家晶圆厂，对工艺的命名不一样，也就有了大家认为的，intel的7nm=台积电的5nm=三星的3nm的说法。

后来intel一看台积电、三星这命名法，也学到了，直接将自己的工艺改名，改成Intel7、Intel4、Intel3、Intel20A、Intel18A。

其中intel7实际上是intel原来的10nm，现在改成7nm。intel4是英特尔原来的7nm，现在改成4nm，intel3实际是原来的5nm，很明显，打不过就加入你们嘛，一起来玩数字游戏。

而按照这套改过的工艺命名，intel也迅速追了上来，不再落后于台积电、三星了，甚至在今年，intel表示要实现intel20A、intel18A工艺，也就是2nm，比台积电、三星还领先，要是不改名，这个intel20A，实际上可能是4nm或5nm的样子。

这给了台积电、三星巨大的压力，毕竟intel原本落后的，现在居然要领先了，这怎么行呢，于是近日传出消息，三星又使出绝招了，打算再次使用“改名大法”。

按照媒体的报道称，三星电子已通知客户决定将第二代3nm制程更名为2nm，并在年底量产出货。

这就意味着，在今年intel、三星都要量产2nm芯片，台积电又落后了，不知道台积电会不会也将第二代3nm工艺改成2nm，不搞什么3NX之类的了？

现在的晶圆厂，还有老实人么？换个思路，如果中芯将14nm也改成7nm，或5nm、3nm这样行不行？是不是意味着我们也不落后了？